Intel созрела для внедрения EUV-литографии только в рамках 7-нм технологии
08.09.2019 13 Просмотров
Когда приглашённые на технологическую конференцию Citi аналитики начали задавать корпоративному вице-президенту Intel вопросы о затруднениях с освоением 10-нм технологии, Джейсон Гриб (Jason Grebe) не стал утаивать от гостей мероприятия, что первоначально компания планировала внедрить так называемую EUV-литографию ещё в рамках 10-нм технологии. Более того, использование EUV при выпуске 10-нм продукции позволило бы избежать технологических сложностей, которые и задержали освоение массового производства 10-нм продуктов. С другой стороны, Джейсон признаёт, что агрессивные цели, поставленные ...
Читать далее »